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Trouble développemental de la coordination ou dyspraxie

Subjects: MESH: Troubles des habiletés motrices / Développement de l'enfant / Recherche interdisciplinaire / Enfant / Adolescent / Activités de la vie quotidienne / Participation sociale / Terminologie / Diagnostic and stastistical manual of mental disorders (USA) / Classification internationale du fonctionnement; du handicap et de la santé / Organisation mondiale de la santé / Aptitudes motrices / Analyse et exécution des tâches / Prévalence / Prématuré / Facteurs sexuels / Comorbidité / Trouble déficitaire de l'attention avec hyperactivité / Dyslexie / Troubles de la parole / Trouble du spectre autistique / Troubles du développement neurologique / Troubles anxieux / Performance psychomotrice / Performance scolaire / Exercice physique / Écriture manuscrite / Mathématiques / Cognition / Apprentissage / Attention / Mémoire à court terme / Image du corps / Anticipation psychologique / Imagerie par résonance magnétique / Cartographie cérébrale / Marqueurs génétiques / Diagnostic précoce / Échelles d'évaluation en psychiatrie / Échelle d'évaluation du comportement / Taille de l'échantillon / Évaluation de résultat (soins) / Régulation de l'accès aux soins spécialisés / Prise en charge personnalisée du patient / Qualité de vie / Thérapeutique / rééducation et réadaptation / Établissements scolaires / Enseignement spécialisé / Ergothérapie / Relations famille-professionnel de santé / Environnement et santé publique / Services de santé pour enfants / Politique de santé / Surveillance de la population; [SDV]Life Sciences [q-bio]

  • Source: https://www.hal.inserm.fr/inserm-03385007 ; [Rapport de recherche] Inserm (dir.). Trouble développemental de la coordination ou dyspraxie. Collection Expertise collective. Montrouge : EDP

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Conference

Top-coats for scalable nano-manufacturing with high-χ block copolymers in lithographic applications

Subjects: [PHYS]Physics [physics]San Jose; USA; France

  • Source: Proc. SPIE 11612, Advances in Patterning Materials and Processes XXXVIII ; SPIE Advanced Lithography conference – Alternative Lithographic Technologies ;

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Conference

Visual Variables in UML: a First Empirical Assessment

Subjects: [INFO]Computer Science [cs]; [INFO.INFO-CL]Computer Science [cs]/Computation and Language [cs.CL]Austin; Texas; USA

  • Source: Human Factors in Modeling ; https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-01693537 ; Human Factors in Modeling , 2017, Austin, Texas, USA, United States

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Conference

Investigation of TiN nucleation mechanisms during PEALD assisted by medium energy ions

Subjects: [PHYS]Physics [physics]Bellevue (Washington - USA); United StatesBellevue (Washington - USA), United States

  • Source: 19th conference on Atomic Layer Depositionhttps://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-0262396519th conference on Atomic Layer Deposition, Jul 2019, Bellevue (Washington -

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Conference

Towards selective etching with nanometric control using remote plasma source

Subjects: [PHYS]Physics [physics]Atlanta; USA; United States

  • Source: 236th Electrochemical Society meeting (ECS 2019)https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02324706236th Electrochemical Society meeting (ECS 2019), Oct 2019, Atlanta,

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Conference

PEALD and ALE for Area Selective Deposition

Subjects: [SPI.NANO]Engineering Sciences [physics]/Micro and nanotechnologies/MicroelectronicsAtlanta (USA); United States

  • Source: 236th ECS Fall Meetinghttps://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02338860236th ECS Fall Meeting, Oct 2019, Atlanta (USA), United States

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Conference

In line and ex situ metrology and characterization to enable Area Selective Deposition

Subjects: [SPI.NANO]Engineering Sciences [physics]/Micro and nanotechnologies/MicroelectronicsColombus (USA); United States

  • Source: AVS 66th International Symposium 2019 ; https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02338893 ; AVS 66th International Symposium 2019, Oct 2019, Colombus (USA), United States

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